氫氣純化裝置是一種以氫氣為原料,通過催化除氧冷卻除水,吸附干燥的氫氣純化設(shè)備。它主要由預(yù)加熱器、除氧器、冷卻器、冷干機(jī)、干燥器、儀表控制系統(tǒng)等部件組成。 工作原理 本裝置先將原料氫氣加熱后，使其進(jìn)入裝有鈀催化劑的除氧器。在除氧器中氫氣中的微量氧與氫氣在催化劑作用下，發(fā)生氫氧反應(yīng)生成水汽O2+2H2→2H。
本裝置先將原料氫氣加熱后，使其進(jìn)入裝有鈀催化劑的除氧器。在除氧器中氫氣中的微量氧與氫氣在催化劑作用下，發(fā)生氫氧反應(yīng)生成水汽O2+2H2→2H2O，再經(jīng)冷凝除水達(dá)到除氧之目的。經(jīng)除氧、除水后的氫氣再經(jīng)裝有分子篩的干燥器進(jìn)行深度吸附干燥處理。從而獲得含水量、含氧量極低的高純氫氣。
高純氫氣廣泛應(yīng)用于石油化工、電子工業(yè)、電子半導(dǎo)體、冶金工業(yè)、機(jī)械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產(chǎn)業(yè)部門和科學(xué)研究中、生產(chǎn)部門亦可作為熱處理保護(hù)氣體以及精細(xì)有機(jī)合成、航空航天等方面有著廣泛的應(yīng)用。例如本機(jī)已在精密合金熱處理、航天航空、半導(dǎo)體硅材料、硅外延、化合物半導(dǎo)體等的生產(chǎn)中的應(yīng)用，效果都很好。
主要技術(shù)性能
處理氣量：0.5～2000Nm3/h
原料氫氣氧含量：≤2%
產(chǎn)品氫氣氧含量：≤1ppm
產(chǎn)品氫氣露點(diǎn)：≤－60～－70℃
產(chǎn)品氮?dú)鈮毫Γ?.1～1.0Mpa
干燥器切換方式：自動或手動
結(jié)構(gòu)形式：帶面板的框架結(jié)構(gòu)或箱式
主要特點(diǎn)
工藝流程簡單、除氧深度深、露點(diǎn)低；
電氣裝置按隔爆要求設(shè)計.采用蒸汽加熱，冰水冷卻，加熱冷卻自動由調(diào)閥控制流量；
運(yùn)行成本低，設(shè)備投資少；
操作方便、維護(hù)簡便；
可靠性高。
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